中微半導體設備公司在刻蝕領域和薄膜沉積領域深耕已久，并曾制造出中國第一臺電解質刻蝕機。目前它推出的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米的集成電路加工制造及先進封裝，芯片介質刻蝕設備占據了中芯國際 50%以上的新增采購額。
同時，中微公司是國內唯一兼具CCP與ICP兩種刻蝕技術的企業。公司2021年上半年刻蝕設備收入為8.58億元，較去年同期增長約83.79%，毛利率達到44.29%。
【編輯注：根據產生等離子體方法的不同，干法刻蝕主要分為電容性等離子體刻蝕(CCP)和電感性等離子體刻蝕(ICP)。CCP和ICP是等離子刻蝕設備中應用最廣泛的兩類設備。】
目前公司等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米的集成電路加工制造及先進封裝。
半導體領域的薄膜沉積方面，中微公司的MOCVD可用于制造LED外延片、LED、OLED、MiniLED等。從2010年開始，中微公司開發用于LED外延片加工中最關鍵的設備MOCVD設備，目前已開發了三代 MOCVD設備，可用于藍綠光LED、功率器件等加工，包括:第一代設備PrismoD-Blue、第二代設備Prismo A7及正在開發的第三代30英寸大尺寸設備。
上半年中微公司的MOCVD設備營收2.19億元同比下降10.08%，但該項業務毛利率達到30.77%，較去年同期大幅提升。
其核心產品如下表所示：
| 產品類別 | 應用領域 |
| 電容性等離子體刻蝕設備 | |
| 電感性等離子體刻蝕設備 | 主要應用于集成電路制造中單晶硅、多晶硅以及多種介質等材料的刻蝕 |
| 深硅刻蝕設備 | |
| MOCVD設備 | 藍綠光及紫外LED外延片和功率器件的生產 |
| VOC 設備 | 平板顯示生產線等工業用的空氣凈化 |
表：中微半導體設備公司核心產品包括等離子體刻蝕設備及MOCVD設備等。
在客戶方面，中微設備已成功進入了部分海內外主流半導體制造企業：
刻蝕設備的用戶包括臺積電、中芯國際、聯華電子、華力微電子、海力士、長江存儲等集成電路制造商（或半導體封測廠商）；MOCVD設備的客戶包括三安光電、璨揚光電、華燦光電、乾照光電等LED芯片及功率器件制造商。研報披露已在進軍3nm工藝
中微公司稱，目前CCP刻蝕機已在5nm器件上實現量產，并在5納米以下器件的試生產上實現了突破性的進展。
在研項目顯示中微公司目前已完成3nm刻蝕機Alpha原型機的設計、制造、測試及初步的工藝開發和評估。
用于更小器件、厚度薄的軟材料的ICP刻蝕機則在高速發展階段。
中微臨港產業化基地項目開工
2004年，公司董事長尹志堯放棄美國百萬年薪，帶領15人小團隊回國創辦了中微。目前中微的設備已打入臺積電、中芯國際、意法半導體等制造和封測客戶。
中微臨港產業化基地項目開工，該項目規劃總建筑面積約18萬平方米，項目基礎建設總投資約15億元。項目建成后將滿足中微公司集成電路設備、泛半導體設備的研發、測試和產業化需求。中微臨港產業化基地計劃于2022年底建成并投入使用。
圖：中微公司董事長兼總經理尹志堯博士。
中微剛剛公布的上半年業績大幅提升，同時上半年也加大了研發投入，開支2.86億元，相較去年同期增長38.1%。公司的研發人數也從去年同期的298人增加至348人。
9月14日，中微公司董事長尹志堯先生將出席第二屆中國（上海）自貿區臨港新片區半導體產業發展高峰論壇，進行《打造全方位高質量的，有國際競爭力的半導體設備公司》的主題演講，歡迎【免費報名現場交流】。
責編：胡安
